对于溅射类镀膜：可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。氧化钪溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之。鸡西氧化钪溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较般。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。

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镓是一种低熔点高沸点的稀散金属，有“电子工业脊梁”的美誉。氧化钪镓的化合物是优质的半导体材料，被广泛应用到光电子工业和微波通信工业，用于制造微波通讯与微波集成、红外光学与红外探测器件、集成电路、发光二极管等。氧化钪价格例如我们在电脑上看到的红光和绿光就是由磷化镓二极管发出的。目前，半导体行业金属镓消费量约占总消费量的80%—85%。

铟是一种很软的、带蓝色色调的有银白色金属光泽的金属。氧化钪铟比铅还软，即使在液态氮的温度下；用指甲可以轻易地留下划痕，铟也能在和其他金属摩擦的时候附着到其他金属上去。氧化钪价格铟的挥发性比锌和镉的小，但在氢气或真空中能够升华。铟及其化合物对人体没有明显的危害，但应避免它们和身体破伤的部位接触。铟能形成+1、+2和+3价的化合物，其中主要为+3价的铟化合物，如In2O3、InCl3、InN等。铟粉主要用于太阳能电池导电浆，补牙材料，以及用作透明电极（ITO膜）、电子工业中焊料、低熔合金、高性能发动机的轴承、低温和真空领域作密封件等。

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