对于蒸发镀膜：一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。硫酸铟厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；2、基片表面温度；3、蒸发功率，速率；4、真空度；5、镀膜时间，厚度大小。组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。承德硫酸铟晶向均匀性：1、晶格匹配度；2、基片温度；3、蒸发速率

在新型电光源中的应用，如钪-钠素灯，该灯发出的光接近太阳光，具有光度高，光色好，节电能，寿命长，破雾能力强等。硫酸铟在激光中的应用，在GGG加入钪后，制成GSGG，发射功率比同体积的其它激光器提高了三倍，并可达到大功率化和小型化的要求。在合金中的应用：在合金材科中主要用于合金的添加剂和改性剂，在铝及铝合金中加入钪后，可有效提高合金的综合性能。高纯硫酸铟粉末如合金的强度、硬度、耐热性、耐蚀性和焊接性等有明显提高。在其它领域的应用：如在中子过滤材料中加入钪后，在核燃料过滤时，可防止UO2发生相变，利于运行作业。如含钪的阴极用于彩电显像管内，使的电源密度提高4倍，阴极使用寿命增长3倍等。

氮化镓作为一种与Ⅲ-Ⅴ化合物半导体材料，因与锗半导体互为等电子体，却拥有不同的结构与带隙，就引起了科学界对探索其特性的广泛兴趣。硫酸铟氮化镓材料拥有良好的电学特性，相对于硅、砷化镓、锗甚至碳化硅器件，氮化镓器件可以在更高频率、更高功率、更高温度的情况下工作，因而被认为是研究短波长光电子器件以及高温高频大功率器件的最优选材料。高纯硫酸铟粉末其也因此被业界看做是第三代半导体材料的代表。

钪是稀土元素的一种，是应用于诸多国防军工及高科技领域的不可替代的战略资源。硫酸铟金属钪粉在新材料领域中的应用，包括在铝钪合金、燃料电池、钪钠卤灯、示踪剂、激光晶体、特种钢和有色合金中的作用，并分析了它们的具体应用领域。承德硫酸铟随后分析了制约钪规模化应用的因素，并简要介绍了当前钪资源的生产开发状况。

镓是一种低熔点高沸点的稀散金属，有“电子工业脊梁”的美誉。硫酸铟镓的化合物是优质的半导体材料，被广泛应用到光电子工业和微波通信工业，用于制造微波通讯与微波集成、红外光学与红外探测器件、集成电路、发光二极管等。硫酸铟粉末例如我们在电脑上看到的红光和绿光就是由磷化镓二极管发出的。目前，半导体行业金属镓消费量约占总消费量的80%—85%。

使金属镓在室温或加热的条件下与硫酸反应即可得到硫酸镓的水溶液。硫酸铟或者将新制得的氢氧化镓Ga(OH)3沉淀溶于2mol/L的硫酸溶液中也可制得硫酸镓的水溶液。将这种硫酸镓水溶液在60～70℃的温度下进行浓缩，将所得的浓溶液冷却，向其中加入乙醇/乙醚混合物，即可制得十八水硫酸镓Ga2(SO4)3·18H2O的八面体结晶。承德硫酸铟反应中所用的氢氧化镓沉淀可用向三价镓盐的水溶液加氨水制得。为了使生成的氢氧化镓沉淀不致发生溶解，应注意不要使氨水加入过量。为了易于过滤，在沉定过程中可适当加热。